99精品欧美一区二区,婷婷精品,日韩国产一区二区三区,欧美自拍三区,97人人添人人爽一区二区三区,免费亚洲片,国产免费黄色一级片

en
立志成為全球生產功能陶瓷粉體、新型儲能材料、高溫合金、鋁合金添加劑的知名企業。
產品展示 當前位置:首頁產品展示—二硅化鉿 Hafnium silicide(HfSi2)
二硅化鉿 Hafnium silicide(HfSi2)
產品名稱:二硅化鉿(HfSi2) 規格:0.8-10um(D50)   形貌:不規則 顏色:黑灰色  特點:純度高、粒度小、分布均勻、比表面積大和表面活性高 用途:金屬陶瓷、高溫抗氧化涂層、高溫結構材料及航空、航天等領域
0416-3985101 15640608855 在線咨詢 在線咨詢
產品詳情
二硅化鉿 Hafnium silicide(HfSi2)

產品名稱:二硅化鉿(HfSi2

規格:0.8-10um(D50)  

形貌:不規則

顏色:黑灰色 

特點:純度高、粒度小、分布均勻、比表面積大和表面活性高

用途:金屬陶瓷、高溫抗氧化涂層、高溫結構材料及航空、航天等領域

中文名 硅化鉿

英文名 Hafnium silicide 

化學式: HfSi2

CAS:12401-56-8

EINECS: 235-640-1 

密度: 8,02 g/cm3 

熔點 :1680°C 

分子量 234.66 

應用領域:

1. 核工業材料

應用:核反應堆控制棒、中子吸收材料、核廢料容器涂層。

依據:鉿的中子吸收截面大(約105靶恩),是核反應堆控制棒的理想材料,硅化鉿可提升高溫穩定性,延長使用壽命。 耐輻射和抗腐蝕性能優異,適合2. 高溫結構材料與涂層

應用:航空航天發動機葉片、超音速飛行器熱防護層、高溫爐內襯。

依據: 硅化鉿的熔點高達約2500°C,優于硅化鋯,高溫抗氧化性更強(尤其在富氧或極端熱震環境中)。 作為涂層(如通過CVD/PVD技術),可保護鎳基超合金部件免受高溫氧化和腐蝕。

3. 半導體與微電子器件

應用:高介電常數柵極材料(替代SiO?)、集成電路擴散阻擋層。

依據:HfSi?與硅基底相容性好,可降低界面缺陷,在先進制程中作為高介電常數(high-κ)材料,提升晶體管性能。在銅互連工藝中,作為擴散阻擋層(類似TaN),防止銅原子遷移至硅基底。

4. 耐磨與耐腐蝕涂層

應用:精密刀具涂層、化工設備防腐層、海洋環境抗侵蝕涂層。

依據:

 高硬度(約15-20 GPa)和化學惰性,可抵抗酸、堿及鹽霧腐蝕。

 通過熱噴涂或氣相沉積技術,延長工具和設備的服役壽命。

5. 熱電材料

應用:高溫廢熱發電系統、深空探測器同位素電池。

依據:

硅化鉿(如HfSi?)在一定溫度范圍內具有較高的熱電優值(ZT),可將熱能直接轉化為電能。

耐高溫特性使其適用于極端環境(如航天器尾氣余熱回收)。

6. 復合材料增強相

應用:陶瓷基復合材料(CMC)、金屬基復合材料(MMC)。

依據:

作為增強相加入碳化硅(SiC)或氧化鋁(Al?O?)基體中,可提高材料的斷裂韌性和高溫抗蠕變性能。

 用于航天器熱防護系統(TPS)或高超音速飛行器前緣部件。

7. 新興領域探索

量子材料:研究硅化鉿在拓撲絕緣體或超導材料中的潛在特性。

新能源:作為催化劑載體(如電解水制氫)或固態電池界面層。

光電子器件:探索其在紫外光探測器或光伏材料中的應用。

包裝儲存:本品為充惰氣塑料袋包裝,密封保存于干燥、陰涼的環境中,不宜暴露空氣中,防受潮發生氧化團聚,影響分散性能和使用效果;包裝數量可以根據客戶要求提供分裝。

上一篇:二硅化鈷 Cobalt disilicide(CoSi2) 下一篇:二硅化錳 Manganese disilicide(MnSi2)
js